Promotion Dr. Ott am 31.05.2022

Promotion Dr. Jonas Ott am 31.05.2022

Titel und Abstract: 

Druckloses Sintern von Cu für Hochleistungsanwendungen
Um sinterbasierte Fertigungsverfahren für die Herstellung komplexer und hochleitfähiger
Kupfer-Bauteile zu etablieren, ist die Beherrschung des Sinterprozesses von Kupfer (Cu)
notwendig. Diese Dissertation befasst sich mit den Grundlagen zum drucklosen Sintern von
Cu-Pulver und den Zusammenhängen aus Prozessbedingungen, Mikrostruktur und den
finalen physikalischen Eigenschaften wie der Wärmeleitfähigkeit, die speziell für
Anwendungen in der Leistungselektronik von Bedeutung ist. Neue metallographische
Auswertekriterien ermöglichen die quantitative und qualitative Bewertung gesinterter
Mikrostrukturen, wodurch die Grenzen der konventionellen Sinterung aufgezeigt werden. Aus
diesen Erkenntnissen konnten optimierte Sinterprofile abgeleitet werden, die die Entwicklung
der Mikrostruktur gezielt kontrollieren, wodurch höhere Sinterdichten in kürzeren
Prozesszeiten erreicht werden können.